Предыдущая страница реферата | 1  2  3  4  5  6  7 | Следующая страница реферата

5.5. Травление окисной пленки.

Буферный травитель.

5.6. Контроль.

6. Ионное легирование. Бор 1.

“Карман”. Установка “Лада 30”.

7. Снятие фоторезиста.

7.1. Плазма. Установка “08 ПХО 100Т-001”

7.2. Смесь Каро.

8. Химическая обработка.

9. Разгонка бора. “Карман”.

Температура 1200ОС. О2+азот.

10. Вторая фотолитография.

Формирование областей сток- исток р-канальных транзисторов и р+-охраны.

11. Ионное легирование. Бор 2 .

Сток- исток. Установка “Везувий-3М”.

12. Снятие фоторезиста.

Плазма и смесь Каро.

13. Химическая обработка.

14. Разгонка бора. Сток- исток.

Температура 1000ОС, О2+пар.

15. Третья фотолитография.

Формирование областей сток- истока n-канальных транзисторов и n+-охраны.

16. Химическая обработка.

17. Загонка фосфора (диффузионный метод).

Температура 900ОС. Диффузант — POCl3.

Рекомендуем скачать другие рефераты по теме: автомобили реферат доход реферат, конспект, мцыри сочинение.





Предыдущая страница реферата | 1  2  3  4  5  6  7 | Следующая страница реферата