Предыдущая страница реферата | 1  2  3  4  5

Рабочее вещество может подаваться в разрядную камеру источника в виде элементарного газа или газоразрядных соединений твердых веществ . Для ионизации твердых веществ используется их испарение в тигле, нагреваемом до высоких температур, и последующая подача паров рабочего вещества в разрядную камеру источника. Используется также эффект катодного распыления тугоплавкого материала и его ионизация в плазме вспомогательного инертного газа.

Промышленное применение разнообразных методов ионно-лучевой обработки материалов повышает требования к ионным источникам. Главным образом это касается увеличения интенсивности ионных потоков, повышения ресурса, возможности использования различных рабочих веществ и разных сортов ионов, высокой стабильности рабочих параметров, снижения энергоемкости и металлоемкости установки.

заключение

Существует большое разнообразие ионных источников, применение которых в технологии микроэлектроники открывает широкие перспективы.

Ионный источник Кауфмана по сравнению с другими имеет ряд существенных преимуществ: низкое напряжение разряда ((20 В), благодаря чему ионный пучок содержит небольшое количество примесей (10-6%) и имеет малый энергетический разброс; механизм поддержания стационарного разряда позволяет применять многолучевое извлечение ионного пучка и работать с однородными потоками большого диаметра; осцилляция электронов позволяет использовать низкое давление в разрядной камере, что снижает потери пучка и уменьшает загрязнение мишени; источник имеет высокий газовый к.п.д. (80 %) и высокий энергетический к.п.д.

Однако этот источник имеет ряд недостатков конструкции: использование термокатода ограничивает срок службы источника и не позволяет работать с химически активными рабочими веществами, кроме того, плазма в магнитном поле подвержена неустойчивостям, ухудшающим стабильность параметров ионного пучка и его оптические свойства.

Типичные параметры технологического источника Кауфмана ток ионов (Аr+)
10 мА, напряжение разряда 20 В, напряжение на ускоряющем электроде 20кВ.

Существуют возможности улучшения конструкции этого ионного источника, в частности применение мультикатодной и мультипольной систем.

Применение ионных процессов позволяет повысить точность изготовления микроструктур и создать высокопроизводительное автоматизированное промышленное оборудование.

СПИСОК ИСПОЛЬЗОВАННЫХ ИСТОЧНИКОВ

1. Технология ионных источников, В.В. Коткин, Москва, Учебное пособие

МИФИ, 1990г, 86 стр.

Интенсивые электронные и ионные пучки. С.И. Молоковский А.Д.Сушков,
Москва ,Энергоатомиздат 1991г , 302 стр. .

2. Физика и технология источников ионов. Я. Браун, Москва, Мир 1998г,

420 стр.

3. Обзоры по электронной технике. «Реактивное ионное травление», выпуск 1 (1010) 1984 г.

Технология материалов электронной техники, В.В. Крапухин, И.А. Соколов,
Г.Д. Кузнецов, Москва МИСИС, 490 стр. 1995 г.

Скачали данный реферат: Losev, Evseev, Пшеничников, Makrina, Iraklij, Sokrat, Дресвянин, Venedikta.
Последние просмотренные рефераты на тему: шпаргалки по государству и праву, решебник по русскому, скачать реферат бесплатно без регистрации, налоги и налогообложение.





Предыдущая страница реферата | 1  2  3  4  5