Математическое моделирование технологического процесса изготовления ТТЛ-инвертора
| Категория реферата: Рефераты по технологии
| Теги реферата: конспект зима, реферат трудовой
| Добавил(а) на сайт: Сапогов.
Предыдущая страница реферата | 1 2 3 4 5 6 7 8 | Следующая страница реферата
U'пор = 1.73B.
Зная напряжения логических уровней и пороговые напряжения, можно определить помехоустойчивость схемы:
Uпом = min(U0пом,U1пом)
U0пом = U0пор – U0
U1пом = U1 – U1пор
U0пом = В
U1пом
Uпом = В
Время задержки легко определить, сравнением входного и выходного импульсов (Приложение ) = В
Средняя потребляемая мощность определяется из графика в Приложении
10:
Таким образом, получим потребляемую мощность:
При расчёте выяснилось что у схемы маленькая помехоустойчивость. В
связи с этим рекомендуется уменьшить сопротивление коллекторов у выходных
транзисторов схемы (Q4 и Q5).
Это приведёт к уменьшению напряжения логического нуля, что в свою очередь
приведёт к повышению помехоустойчивости схемы.
Заключение
В ходе данной работы было произведено сквозное проектирование ТТЛШ –
инвертора. В результате были рассчитаны параметры биполярного транзистора.
Профили распределения примесей в биполярной структуре представлены на
графиках в Приложениях 1,2,3, а модели транзисторов в Приложении 6.
Кроме того мы рассчитали такие параметры ТТЛШ – инвертора, как напряжение логических уровней, пороговые напряжения, помехоустойчивость схемы, время задержки, среднюю потребляемую мощность. Результаты расчётов представлены в пункте 3 и приложениях 7,8,9,10. Полученные результаты удовлетворяют требованиям ТТЛШ – микросхем.
Расчёты представленные в этой работе являются приближёнными, так как для более точных расчётов необходимы более мощные средства автоматического проектирования.
В ходе работы мы пренебрегли процессами сегрегации примеси при окислении, а также зависимостью коэффициента диффузии от концентрации.
В результате работы мы получим математическую модель технологического процесса ТТЛШ –инвертора.
Список используемой литературы
1 Курносов А.И., Юдин В.В. Технология производства полупроводниковых приборов.- Москва.: Высшая школа, 1974. – 400с.: ил.
2 Черняев В.Н. Физико-химические процессы в технологии РЭА: Учебное пособие для вузов.- Москва.: Высшая школа, 1982. 224 с.: ил.
3 Матсон Э.А. Крыжановский Д.В. Справочное пособие по конструированию микросхем. –Мн.: Высшая школа, 1983. –271 с.: ил.
4 Коледов Л.А. Конструирование и технология микросхем. курсовое
проектирование: Учебное пособие для вузов.- Москва.: Высшая школа, 1984.
–231с.: ил.
-----------------------
[pic]
Рекомендуем скачать другие рефераты по теме: курсовые работы бесплатно, реферат влияние, курсовик.
Категории:
Предыдущая страница реферата | 1 2 3 4 5 6 7 8 | Следующая страница реферата